10x10mm Nonpolar M-pesawat Aluminium Substrat

Katerangan pondok:

10x10mm Nonpolar M-pesawat Aluminium Substrat- Idéal pikeun aplikasi optoeléktronik canggih, nawiskeun kualitas kristalin anu unggul sareng stabilitas dina format kompak, precision tinggi.


Rincian produk

Tag produk

Semicera urang10x10mm Nonpolar M-pesawat Aluminium Substratdirancang sacara saksama pikeun nyumponan sarat anu pasti tina aplikasi optoeléktronik canggih. Substrat ieu gaduh orientasi M-pesawat nonpolar, anu penting pikeun ngirangan épék polarisasi dina alat sapertos LED sareng dioda laser, ngarah kana kamampuan sareng efisiensi.

The10x10mm Nonpolar M-pesawat Aluminium Substratdidamel kalayan kualitas kristal anu luar biasa, mastikeun kapadetan cacad minimal sareng integritas struktural anu unggul. Hal ieu ngajadikeun eta pilihan idéal pikeun tumuwuhna epitaxial pilem III-nitride kualitas luhur, nu penting pisan pikeun ngembangkeun alat optoeléktronik generasi saterusna.

rékayasa precision Semicera mastikeun yén unggal10x10mm Nonpolar M-pesawat Aluminium Substratnawarkeun ketebalan konsisten tur flatness permukaan, nu krusial pikeun déposisi pilem seragam jeung fabrikasi alat. Salaku tambahan, ukuran kompak substrat ngajadikeun éta cocog pikeun lingkungan panalungtikan sareng produksi, ngamungkinkeun pikeun dianggo anu fleksibel dina sababaraha aplikasi. Kalayan stabilitas termal sareng kimia anu saé, substrat ieu nyayogikeun yayasan anu dipercaya pikeun ngembangkeun téknologi optoeléktronik anu canggih.

Barang

Produksi

Panalungtikan

Dummy

Parameter kristal

Polytype

4H

Kasalahan orientasi permukaan

<11-20 >4±0,15°

Parameter listrik

Dopant

n-tipe Nitrogén

Résistansi

0,015-0,025 ohm · cm

Parameter mékanis

diaméterna

150,0 ± 0,2 mm

Kandelna

350±25 μm

Orientasi datar primér

[1-100] ± 5°

Panjang datar primér

47,5±1,5mm

Datar sekundér

Euweuh

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm * 5mm)

≤5 μm (5mm * 5mm)

≤10 μm (5mm * 5mm)

ruku

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Leumpang

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Hareup (Si-beungeut) kasar (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Struktur

Kapadetan micropipe

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Kotoran logam

≤5E10atoms/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Kualitas hareup

Hareupeun

Si

Beungeut bérés

Si-beungeut CMP

Partikel

≤60ea/wafer (ukuran≥0.3μm)

NA

Goresan

≤5ea/mm. Panjang kumulatif ≤Diaméterna

Panjang kumulatif≤2*Diaméterna

NA

Kulit jeruk / liang / noda / striations / retakan / kontaminasi

Euweuh

NA

Tepi chip / indents / narekahan / pelat hex

Euweuh

wewengkon polytype

Euweuh

aréa kumulatif≤20%

aréa kumulatif≤30%

Nyirian laser hareup

Euweuh

Kualitas Balik

Pungkasan deui

C-beungeut CMP

Goresan

≤5ea / mm, Kumulatif length≤2 * Diaméterna

NA

Cacad tukang (ujung chip / indents)

Euweuh

Kasar deui

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Nyirian laser deui

1 mm (ti ujung luhur)

Ujung

Ujung

Chamfer

Bungkusan

Bungkusan

Epi-siap sareng bungkusan vakum

Bungkusan kaset multi-wafer

*Catetan: "NA" hartosna henteu aya pamundut Barang anu henteu disebatkeun tiasa ngarujuk kana SEMI-STD.

tech_1_2_size
wafer SiC

  • saméméhna:
  • Teras: