Grafit Susceptor kalawan Silicon Carbide palapis, 8 inci Wafer Carrier

Katerangan pondok:

Semicera Energy nawiskeun rangkeian komprehensif susceptor sareng komponén grafit anu dirancang pikeun sababaraha réaktor epitaksi.

Ngaliwatan partnerships strategis jeung OEMs ngarah industri, kaahlian bahan éksténsif, jeung kamampuhan manufaktur canggih, Weitai delivers desain tailored pikeun minuhan sarat husus tina aplikasi Anjeun. Komitmen kami pikeun kaunggulan mastikeun yén anjeun nampi solusi anu optimal pikeun kabutuhan reaktor epitaksi anjeun.

Kirim surélék ka kami

Rincian produk

Tag produk

Katerangan

palapis CVD-SiCmibanda ciri struktur seragam, bahan kompak, résistansi suhu luhur, résistansi oksidasi, purity tinggi, résistansi asam & alkali jeung réagen organik, mibanda sipat fisik jeung kimia stabil.

Dibandingkeun jeung bahan grafit-purity tinggi, grafit mimiti ngoksidasi dina 400C, nu bakal ngabalukarkeun leungitna bubuk alatan oksidasi, hasilna polusi lingkungan alat periferal jeung chambers vakum, sarta ngaronjatkeun pangotor lingkungan-purity tinggi.
Sanajan kitu,palapis SiCbisa ngajaga stabilitas fisik jeung kimia dina 1600 derajat, Hal ieu loba dipaké dina industri modern, utamana dina industri semikonduktor.

CFGNBHXF

SFGHBZSF

Fitur Utama

1 .High purity SiC coated grafit

2. lalawanan panas punjul & uniformity termal

3. MuhunSiC kristal coatedpikeun permukaan lemes

4. durability High ngalawan beberesih kimiawi

Spésifikasi utama Coatings CVD-SIC:

SiC-CVD
Kapadetan	(g/cc)	3.21
Kakuatan flexural	(Mpa)	470
ékspansi termal	(10-6/K)	4
konduktivitas termal	(W/mK)	300

Bungkusan sareng Pengiriman

Kamampuhan suplai:
10000 Potongan / Potongan per Bulan
Bungkusan & Pangiriman:
Packing: Standar & Packing Kuat
Kantong poli + Box + Karton + Usuk
Palabuhan:
Ningbo / Shenzhen / Shanghai
Waktos prosés: