Semicera nyayogikeun palapis tantalum carbide (TaC) khusus pikeun sababaraha komponén sareng operator.Prosés palapis Semicera ngarah ngamungkinkeun palapis tantalum carbide (TaC) pikeun ngahontal kamurnian anu luhur, stabilitas suhu anu luhur sareng kasabaran kimiawi anu luhur, ningkatkeun kualitas produk kristal SIC / GAN sareng lapisan EPI (Susceptor TaC dilapis grafit), sarta manjangkeun umur komponén reaktor konci. Pamakéan tantalum carbide TaC palapis nyaéta pikeun ngajawab masalah ujung jeung ngaronjatkeun kualitas tumuwuhna kristal, sarta Semicera geus narabas direngsekeun téhnologi palapis tantalum carbide (CVD), ngahontal tingkat canggih internasional.
Tantalum carbide ngagem-tahan cingcin palapis anu loba dipaké dina sagala rupa gesekan tinggi na skénario maké tinggi, kayaning anjing laut mékanis, sistem pompa, valves, bantalan, sarta parabot motong. Aranjeunna nyayogikeun panyalindungan ngagem anu dipercaya, ngirangan ngagem sareng karusakan komponén, sareng ningkatkeun réliabilitas sareng umur jasa alat.
Ciri tina cingcin palapis tahan tantalum carbide nyaéta kieu:
1. Ngagem lalawanan: Tantalum carbide palapis boga karasa pisan tinggi na lalawanan maké, éféktif bisa nolak gesekan jeung maké, sarta manjangkeun umur jasa tina ring palapis.
2. Low koefisien gesekan: Tantalum carbide palapis ngabogaan koefisien gesekan low, ngurangan leungitna gesekan jeung konsumsi énergi antara palapis jeung bahan séjén.
3. lalawanan korosi: Tantalum carbide palapis bisa nolak erosi tina rupa-rupa bahan kimia jeung pangleyur, boga lalawanan korosi alus teuing, sarta cocog pikeun aplikasi dina lingkungan corrosive.
4. stabilitas suhu luhur: Tantalum carbide palapis bisa ngajaga stabilitas struktural sarta lalawanan maké alus dina lingkungan suhu luhur, sarta cocog pikeun prosés suhu luhur sarta aplikasi.
kalawan jeung tanpa TaC
Sanggeus ngagunakeun TaC (katuhu)
Leuwih ti éta, Semicera urangproduk TaC-coatednémbongkeun umur layanan leuwih panjang sarta lalawanan-suhu luhur gede dibandingkeun jeungpalapis SiC.Pangukuran laboratorium parantos nunjukkeun yén urangpalapis TaCkonsistén bisa ngalakukeun dina suhu nepi ka 2300 darajat Celsius pikeun période nambahan. Di handap ieu sababaraha conto sampel urang:
