Semicera urangKaset Wafermangrupakeun komponén kritis dina prosés manufaktur semikonduktor, dirancang pikeun aman nahan jeung ngangkut wafers semikonduktor hipu. TheKaset Wafernyadiakeun panyalindungan luar biasa, mastikeun yén unggal wafer dijaga bebas tina rereged jeung karuksakan fisik salila penanganan, neundeun, jeung transportasi.
Diwangun ku-purity tinggi, bahan kimia-tahan, anu SemiceraKaset Waferngajamin tingkat kabersihan sareng daya tahan anu paling luhur, penting pikeun ngajaga integritas wafer dina unggal tahapan produksi. Rékayasa presisi tina kaset ieu ngamungkinkeun integrasi mulus sareng sistem penanganan otomatis, ngaminimalkeun résiko kontaminasi sareng karusakan mékanis.
Desain tinaKaset Waferogé ngadukung aliran hawa sareng kontrol suhu anu optimal, anu penting pikeun prosés anu peryogi kaayaan lingkungan khusus. Naha dianggo dina kamar bersih atanapi nalika ngolah termal, SemiceraKaset Waferdirancang pikeun minuhan tungtutan ketat industri semikonduktor, nyadiakeun kinerja dipercaya jeung konsisten pikeun ngaronjatkeun efisiensi manufaktur sarta kualitas produk.
| Barang | Produksi | Panalungtikan | Dummy |
| Parameter kristal | |||
| Polytype | 4H | ||
| Kasalahan orientasi permukaan | <11-20 >4±0,15° | ||
| Parameter listrik | |||
| Dopant | n-tipe Nitrogén | ||
| Résistansi | 0,015-0,025 ohm · cm | ||
| Parameter mékanis | |||
| diaméterna | 150,0 ± 0,2 mm | ||
| Kandelna | 350±25 μm | ||
| Orientasi datar primér | [1-100] ± 5° | ||
| Panjang datar primér | 47,5±1,5mm | ||
| Datar sekundér | Euweuh | ||
| TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
| LTV | ≤3 μm (5mm * 5mm) | ≤5 μm (5mm * 5mm) | ≤10 μm (5mm * 5mm) |
| ruku | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
| Leumpang | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
| Hareup (Si-beungeut) kasar (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Struktur | |||
| Kapadetan micropipe | <1 ea/cm2 | <10 ea/cm2 | <15 ea/cm2 |
| Kotoran logam | ≤5E10atoms/cm2 | NA | |
| BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
| TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
| Kualitas hareup | |||
| Hareupeun | Si | ||
| Beungeut bérés | Si-beungeut CMP | ||
| Partikel | ≤60ea/wafer (ukuran≥0.3μm) | NA | |
| Goresan | ≤5ea/mm. Panjang kumulatif ≤Diaméterna | Panjang kumulatif≤2*Diaméterna | NA |
| Kulit jeruk / liang / noda / striations / retakan / kontaminasi | Euweuh | NA | |
| Tepi chip / indents / narekahan / pelat hex | Euweuh | ||
| wewengkon polytype | Euweuh | aréa kumulatif≤20% | aréa kumulatif≤30% |
| Nyirian laser hareup | Euweuh | ||
| Kualitas Balik | |||
| Pungkasan deui | C-beungeut CMP | ||
| Goresan | ≤5ea / mm, Kumulatif length≤2 * Diaméterna | NA | |
| Cacad tukang (ujung chip / indents) | Euweuh | ||
| Kasar deui | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
| Nyirian laser deui | 1 mm (ti ujung luhur) | ||
| Ujung | |||
| Ujung | Chamfer | ||
| Bungkusan | |||
| Bungkusan | Epi-siap sareng bungkusan vakum Bungkusan kaset multi-wafer | ||
| *Catetan: "NA" hartosna henteu aya pamundut Barang anu henteu disebatkeun tiasa ngarujuk kana SEMI-STD. | |||
