Katerangan
parusahaan urang nyadiakeunpalapis SiCjasa prosés ku metoda CVD dina beungeut grafit, keramik jeung bahan séjén, ku kituna gas husus nu ngandung karbon jeung silikon meta dina suhu luhur pikeun ménta purity tinggi molekul SiC, molekul disimpen dina beungeut bahan coated, ngabentukLapisan pelindung SiC.
Fitur Utama
1. Résistansi oksidasi suhu luhur:
résistansi oksidasi masih pohara alus lamun suhu saluhur 1600 C.
2. Purity High: dijieun ku déposisi uap kimia dina kaayaan chlorination suhu luhur.
3. lalawanan erosi: karasa tinggi, beungeut kompak, partikel rupa.
4. lalawanan korosi: asam, alkali, uyah jeung réagen organik.
Spésifikasi utama palapis CVD-SIC
| SiC-CVD Pasipatan | ||
| Struktur Kristal | Fase β FCC | |
| Kapadetan | g/cm³ | 3.21 |
| Teu karasa | Vickers karasa | 2500 |
| Ukuran gandum | μm | 2~10 |
| Kamurnian Kimia | % | 99.99995 |
| Kapasitas Panas | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Suhu Sublimation | ℃ | 2700 |
| Kakuatan Felexural | MPa (RT 4-titik) | 415 |
| Modulus ngora | Gpa (4pt ngalipet, 1300 ℃) | 430 |
| Ékspansi Thermal (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| konduktivitas termal | (W/mK) | 300 |
Parabot
