Salaku salah sahiji komponén inti tinaparabot MOCVD, basa grafit nyaéta pamawa sarta pemanasan awak substrat, nu langsung nangtukeun uniformity na purity tina bahan pilem, jadi kualitas na langsung mangaruhan persiapan lambar epitaxial, sarta dina waktos anu sareng, kalawan ngaronjatna jumlah pamakéan sarta parobahan kaayaan gawé, éta pisan gampang mun teu ngagem, milik consumables.
Sanajan grafit boga konduktivitas termal alus teuing jeung stabilitas, mibanda kaunggulan alus salaku komponén dasar tinaparabot MOCVD, Tapi dina prosés produksi, grafit bakal corrode bubuk alatan résidu gas corrosive sarta organik logam, sarta hirup jasa tina basa grafit bakal greatly ngurangan.Dina waktu nu sarua, bubuk grafit ragrag bakal ngabalukarkeun polusi kana chip.
Mecenghulna téhnologi palapis bisa nyadiakeun fiksasi bubuk permukaan, ningkatkeun konduktivitas termal, sarta equalize sebaran panas, nu geus jadi téhnologi utama pikeun ngajawab masalah ieu.Basa grafit diparabot MOCVDlingkungan pamakéan, grafit base palapis permukaan kudu minuhan ciri handap:
(1) Dasar grafit bisa pinuh dibungkus, sarta dénsitas anu alus, disebutkeun basa grafit gampang corroded dina gas corrosive.
(2) Kakuatan kombinasi jeung basa grafit luhur pikeun mastikeun yén palapis nu teu gampang layu atawa gugur sanggeus sababaraha suhu luhur sarta siklus hawa low.
(3) Cai mibanda stabilitas kimiawi alus pikeun nyegah gagalna palapis dina suhu luhur jeung atmosfir corrosive.
SiC gaduh kaunggulan résistansi korosi, konduktivitas termal anu luhur, résistansi shock termal sareng stabilitas kimiawi anu luhur, sareng tiasa dianggo saé dina suasana epitaxial GaN.Salaku tambahan, koefisien ékspansi termal SiC béda pisan sareng grafit, janten SiC mangrupikeun bahan anu dipikaresep pikeun palapis permukaan dasar grafit.
Ayeuna, SiC umum utamana 3C, 4H sareng 6H, sareng panggunaan SiC tina jinis kristal anu béda-béda béda.Contona, 4H-SiC tiasa ngadamel alat-alat kakuatan tinggi;6H-SiC nyaéta anu paling stabil sareng tiasa ngadamel alat fotoéléktrik;Kusabab strukturna anu sami sareng GaN, 3C-SiC tiasa dianggo pikeun ngahasilkeun lapisan epitaxial GaN sareng ngadamel alat RF SiC-GaN.3C-SiC ogé ilahar disebutβ-SiC, sarta pamakéan penting tinaβ-SiC nyaéta salaku pilem sareng bahan palapis, jantenβ-SiC ayeuna bahan utama pikeun palapis.
waktos pos: Nov-06-2023