Grafit Susceptor kalawan Silicon Carbide palapis, baki Laras

Grafit Susceptor kalawan Silicon Carbide palapis, Laras baki Gambar Diulas

Katerangan pondok:

Semicera nawiskeun rangkeian komprehensif susceptors sareng komponén grafit anu dirancang pikeun sagala rupa réaktor epitaksi.

Ngaliwatan partnerships strategis jeung OEMs ngarah industri, kaahlian bahan éksténsif, sarta kamampuhan manufaktur canggih, Semicera delivers desain tailored pikeun minuhan sarat husus tina aplikasi Anjeun.Komitmen kami pikeun kaunggulan mastikeun yén anjeun nampi solusi anu optimal pikeun kabutuhan reaktor epitaksi anjeun.

Kirim surélék ka kami

Rincian produk

Tag produk

Katerangan

Pausahaan kami nyayogikeun jasa prosés palapis SiC ku metode CVD dina permukaan grafit, keramik sareng bahan-bahan sanés, ku kituna gas khusus anu ngandung karbon sareng silikon diréaksikeun dina suhu anu luhur pikeun kéngingkeun molekul SiC anu murni, molekul disimpen dina permukaan bahan anu dilapis, ngabentuk lapisan pelindung SIC.

ngeunaan (1)

ngeunaan (2)

Fitur Utama

1 .High purity SiC coated grafit

2. lalawanan panas punjul & uniformity termal

3. Rupa SiC kristal coated pikeun permukaan lemes

4. durability High ngalawan beberesih kimiawi

Spésifikasi utama palapis CVD-SIC

SiC-CVD Pasipatan
Struktur Kristal	Fase β FCC
Kapadetan	g/cm³	3.21
Teu karasa	Vickers karasa	2500
Ukuran gandum	μm	2~10
Kamurnian Kimia	%	99.99995
Kapasitas Panas	J·kg-1 ·K-1	640
Suhu Sublimation	℃	2700
Kakuatan Felexural	MPa (RT 4-titik)	415
Modulus ngora	Gpa (4pt ngalipet, 1300 ℃)	430
Ékspansi Thermal (CTE)	10-6K-1	4.5
konduktivitas termal	(W/mK)	300